據(jù)媒體報(bào)道,有多名知情人士透露,隨著芯片制造競(jìng)賽的升級(jí),三星電子計(jì)劃采用競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手SK海力士的技術(shù)。
目前市場(chǎng)對(duì)于HBM(高帶寬存儲(chǔ))芯片的需求越來(lái)越大,然而與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手SK海力士和美光相比,三星卻失去了英偉達(dá)的大單。
分析人士普遍認(rèn)為,三星之所以丟掉大單,很大程度上源于其堅(jiān)持采用非導(dǎo)電薄膜(NCF)芯片工藝;而SK海力士使用的批量回流模制底部填充(MR-MUF)工藝,則有效解決了NCF技術(shù)的弊端。
分析師認(rèn)為,三星HBM3芯片的良率表現(xiàn)并不理想,僅維持在10-20%的水平;相比之下,其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手SK海力士的HBM3良率高達(dá)60-70%。
無(wú)奈之下,三星也開(kāi)始計(jì)劃采用SK海力士使用的MR-MUF工藝,而非此前堅(jiān)持的NCF技術(shù)。
知情人士稱,三星最近已發(fā)出了處理MR-MUF技術(shù)的設(shè)備采購(gòu)訂單,還在與包括日本長(zhǎng)瀨公司在內(nèi)的材料制造商洽談采購(gòu)MUF材料的事宜。
但盡管如此,由于需要進(jìn)行更多的測(cè)試和優(yōu)化,三星使用這一技術(shù)的芯片最早要到明年才能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
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