東京電子推出 Acrevia 氣體團(tuán)簇光束系統(tǒng)，與應(yīng)用材料競爭 EUV 圖案塑形訂單

　　東京電子 TEL 當(dāng)?shù)貢r(shí)間 7 月 8 日宣布推出 Acrevia GCB(IT之家注：氣體團(tuán)簇光束，Gas Cluster Beam)系統(tǒng)，該系統(tǒng)可對 EUV 光刻圖案進(jìn)行臨界尺寸和形狀的精確調(diào)整。

　　東京電子此次發(fā)布 Acrevia 系統(tǒng)旨在同另一家半導(dǎo)體設(shè)備巨頭應(yīng)用材料競爭 EUV 圖案塑形領(lǐng)域的訂單：應(yīng)用材料于當(dāng)?shù)貢r(shí)間 2023 年 2 月 28 日推出了功能類似的 Centura Sculpta 系統(tǒng)。

　　東京電子的 Acrevia 系統(tǒng)利用定向氣體團(tuán)簇光束在最佳晶圓傾斜角度進(jìn)行蝕刻，對 EUV 光刻圖案進(jìn)行微調(diào)，也可降低圖案的線邊緣粗糙度，能以盡可能小的損傷減少光刻過程產(chǎn)生的缺陷進(jìn)而提高產(chǎn)量。

　　對于 EUV 光刻技術(shù)而言，實(shí)現(xiàn)更細(xì)微的電路結(jié)構(gòu)的一種可能路線是多次曝光(多重圖案化)，然而這意味著光刻成本的飆升。而東京電子與應(yīng)用材料推出的圖案塑形設(shè)備不僅能修正錯(cuò)誤，還能減少 EUV 光刻的使用。

　　據(jù)韓媒 etnews 報(bào)道，應(yīng)用材料已累計(jì)收獲 2 億美元(IT之家備注：當(dāng)前約 14.31 億元人民幣)的 Centura Sculpta 系統(tǒng)訂單，臺(tái)積電和英特爾已引入該系統(tǒng)，三星電子也在對該系統(tǒng)在 4nm 工藝中的應(yīng)用進(jìn)行評估。

　　東京電子方面人士表示：“我們正在與邏輯和半導(dǎo)體合同制造(代工)客戶一起評估 Acrevia 設(shè)備的性能”。韓媒認(rèn)為這是 Acrevia 系統(tǒng)即將開始供應(yīng)的暗示。