今天芯片巨頭英特爾宣布,已開始組裝阿斯麥(ASML)的高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻機,并稱這是其超越競爭對手的重要一步。
去年12月,阿斯麥確認向英特爾交付首臺高數(shù)值孔徑極紫外光刻系統(tǒng),這臺機器的售價高達3.5億歐元(約合27億元人民幣)。
英特爾光刻主管馬克·菲利普斯表示:“我們在決定購買這些設(shè)備時就已經(jīng)認可了它們的價格。如果我們不認為這些設(shè)備物有所值,我們根本不會采購。”
此前英特爾CEO基辛格曾表示,該設(shè)備將會被應(yīng)用于1.8nm以下的挑戰(zhàn)。
除了英特爾外,臺積電、三星、SK海力士和美光等也都訂購了這款機器,但由于該設(shè)備的運輸和安裝可能需要長達六個月的時間,因此英特爾此舉已經(jīng)領(lǐng)先了對手至少半年。
而英特爾決定要率先采用高數(shù)值孔徑極紫外光刻機也并非偶然。
英特爾雖曾參與開發(fā)極紫外光刻技術(shù),但在開始使用阿斯麥首款極紫外光刻機上卻晚于其競爭對手臺積電,基辛格也承認,這是一個嚴重的失誤。
菲利普斯也表示:“現(xiàn)在我們已經(jīng)有了期待已久的新一代極紫外光刻機,我們不想再犯過去的錯誤。”
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