DoNews 7月1日消息(記者 丁凡)近日,TCL華星光電表示,目前LCD屏下指紋技術已達量產(chǎn)水平,預計在今年推出全屏單點屏內(nèi)指紋技術,2021年將推出全屏多點屏內(nèi)指紋技術。
為攻克LCD屏下指紋技術,TCL華星花了兩年時間,逐步解決BLUfilms開發(fā)、TPM亮度的提升、紅外傳感器識別精度提升等難題,F(xiàn)已開發(fā)出可以量產(chǎn)的LCD屏下指紋方案。
相比OLED屏下指紋識別方案,LCD屏下指紋擁有屏幕成本低、良品率高等優(yōu)勢,不過其識別速度和識別率不如OLED屏下指紋,而且抗干擾能力差,前期投入成本太高,或許隨著技術進步,這些劣勢正在逐漸縮小。
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