中國(guó)臺(tái)灣高雄除了臺(tái)積電三座2nm晶圓廠外,還可容納2nm以下技術(shù)設(shè)廠需求。近日有消息稱(chēng),臺(tái)積電將于高雄推進(jìn)A14(14埃米,1.4nm)制程,高雄地方部門(mén)已盤(pán)點(diǎn)下一代先進(jìn)技術(shù)生產(chǎn)的土地需求及水電供給。
對(duì)此,臺(tái)積電表示不回應(yīng)市場(chǎng)傳言。
消息稱(chēng),臺(tái)積電在楠梓園區(qū)增設(shè)第3座晶圓廠是2nm制程,高雄市積極解決水電、土地及周?chē)钚枨蟮葐?wèn)題,據(jù)悉,楠梓園區(qū)用地可供臺(tái)積電興建5座晶圓廠,業(yè)界傳出第4、5廠晶圓廠朝A14制程布局,只待臺(tái)積電公布。
據(jù)悉,臺(tái)積電在楠梓首座2nm制程技術(shù)晶圓廠預(yù)計(jì)2025年量產(chǎn),其產(chǎn)值將較3nm更高。知情人士稱(chēng),未來(lái)2nm制程會(huì)應(yīng)用于高性能計(jì)算(HPC)和智能手機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域,還有電動(dòng)汽車(chē)、自動(dòng)駕駛汽車(chē)等,臺(tái)積電向來(lái)超前研發(fā)先進(jìn)技術(shù),為未來(lái)市場(chǎng)布局。
對(duì)于A14制程,半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)人士援引臺(tái)積電制定的High-NA EUV路線圖指出,臺(tái)積電A14制程將于2026年上半年進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),最快2027年第三季度量產(chǎn),量產(chǎn)初期仍主要采用ASML第三代標(biāo)準(zhǔn)型EUV設(shè)備N(xiāo)XE:3800E。
此外臺(tái)積電臺(tái)中中科新廠,業(yè)界也傳出會(huì)采用2nm以下制程技術(shù)。
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