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    臺積電升級 CoWoS 封裝技術,計劃2027推出12個HBM4E 堆棧的120x120mm 芯片

    2024年04月28日 10:41:21   來源:IT之家

      臺積電近日在北美技術研討會上宣布,正在研發(fā) CoWoS 封裝技術的下個版本,可以讓系統(tǒng)級封裝(SiP)尺寸增大兩倍以上,實現 120x120mm 的超大封裝,功耗可以達到千瓦級別。

      根據臺積電官方描述,CoWoS 封裝技術繼任者所創(chuàng)建的硅中介層,其尺寸是光掩模(Photomask,也稱 Reticle,大約為 858 平方毫米)是 3.3 倍。

      CoWoS 封裝技術繼任者可以封裝邏輯電路、8 個 HBM3 / HBM3E 內存堆棧、I / O 和其他芯粒(Chiplets),最高可以達到 2831 平方毫米,最大基板尺寸為 80×80 毫米。消息稱 AMD 的 Instinct MI300X 和 Nvidia 的 B200 都使用這種技術。

      臺積電計劃 2026 年投產下一代 CoWoS_L,硅中介層尺寸可以達到光掩模的 5.5 倍,可以封裝邏輯電路、 12 個 HBM3 / HBM3E 內存堆棧、I / O 和其他芯粒(Chiplets),最高可以達到 4719 平方毫米。

      臺積電還計劃在 2027 年繼續(xù)推進 CoWoS 封裝技術,讓硅中介層尺寸達到光掩模的 8 倍以上,提供 6864 平方毫米的空間,封裝 4 個堆疊式集成系統(tǒng)芯片 (SoIC),與 12 個 HBM4 內存堆棧和額外的 I / O 芯片。

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