據(jù)臺(tái)媒《工商時(shí)報(bào)》報(bào)道,臺(tái)積電將在 2024~2025 年接收超 60 臺(tái) EUV 光刻機(jī),而其今明兩年在 EUV 光刻機(jī)上的投入將超 4000 億新臺(tái)幣(IT之家備注:當(dāng)前約 896.61 億元人民幣)。
報(bào)道表示,ASML 的 EUV 光刻機(jī)目前供應(yīng)緊張,從下單到交付的整體周期已達(dá) 16~20 個(gè)月。
臺(tái)積電今明兩年將分別下達(dá)約 30 和 35 臺(tái)的 EUV 光刻機(jī)訂單,這些訂單中的大部分將從 2026 年開(kāi)始交付。
臺(tái)媒援引供應(yīng)鏈消息指出,ASML 對(duì) 2025 年產(chǎn)能的規(guī)劃是 20 臺(tái) High-NA EUV 光刻機(jī)、90 臺(tái) EUV 光刻機(jī)和 600 臺(tái) DUV 光刻機(jī)。
根據(jù)臺(tái)積電官方路線圖,其目前已規(guī)劃的最先進(jìn)工藝 16A 將于 2026 年量產(chǎn),仍采用傳統(tǒng) 0.33NA EUV 光刻機(jī)。換句話說(shuō),臺(tái)積電暫未考慮在量產(chǎn)制程中導(dǎo)入 High-NA。
雖然 ASML 方面已確認(rèn)將在 2024 年內(nèi)向臺(tái)積電交付 High-NA EUV 光刻機(jī),但這一機(jī)臺(tái)僅用于制程開(kāi)發(fā)目的。
臺(tái)媒也表示,臺(tái)積電暫無(wú)在 2025~2026 年引入量產(chǎn)用 High-NA EUV 光刻機(jī)的規(guī)劃。
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