沖擊物理極限！臺(tái)積電宣布建設(shè)3nm晶圓廠(chǎng)

　　上周的精尖制造日活動(dòng)中，Intel首次透露了3nm，并強(qiáng)調(diào)摩爾定律在可預(yù)見(jiàn)的未來(lái)都不會(huì)失效。

　　這次會(huì)議，代表了Intel釋放了進(jìn)入半導(dǎo)體代工領(lǐng)域明確信號(hào)，而他們也直言不諱，表示對(duì)手就是臺(tái)積電和三星。至于優(yōu)勢(shì)，Intel認(rèn)為是自己的核心技術(shù)水平。

　　今天，臺(tái)積電在官網(wǎng)發(fā)布新聞宣布，計(jì)劃在南部科學(xué)工業(yè)園區(qū)臺(tái)南園區(qū)投資興建3nm制程廠(chǎng)。

　　臺(tái)積電稱(chēng)，此地具備完整的供應(yīng)鏈落地優(yōu)勢(shì)，園方明確承諾解決土地、用水、供電、環(huán)保等配套問(wèn)題。

　　據(jù)官方資料，目前，臺(tái)積電的12寸超大晶圓廠(chǎng)有四座，其中十四廠(chǎng)就位于該科技園。

　　按照制程的推進(jìn)，10nm之后是7nm，然后是5nm和3nm直到1nm。

　　不過(guò)，Intel此前也表示，3/5mn將面臨很多前沿性的技術(shù)難題。