2021年6月,日本眾議院召開了一場主題為“復(fù)興日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)”的研討會,時值在疫情中遭遇重創(chuàng)的鎧俠半導(dǎo)體(即東芝存儲芯片部門)四處尋找接盤俠,日本存儲芯片最后的火種奄奄一息,日本官方邀請了五位專家學(xué)者暢所欲言,為產(chǎn)業(yè)復(fù)興出謀劃策,壓軸發(fā)言的是一個名叫湯之上隆的人。
湯之上隆曾任職于日立、爾必達的一線研發(fā)部門,親歷了日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從輝煌走向沒落的整個過程。2015年,他將自己的經(jīng)歷與思考寫進了《失去的制造業(yè)》一書,拋開其中對老東家和老領(lǐng)導(dǎo)的冷嘲熱諷,《失去的制造業(yè)》堪稱研究日本芯片產(chǎn)業(yè)的必讀書目。
相比日本官方高舉復(fù)興大旗,湯之上隆在研討會上建議大家以最快的速度躺平,讓在場議員們大跌眼鏡:“失去的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已無法挽回,繼續(xù)投入就是浪費納稅人的錢。”
他認為,由于日本的半導(dǎo)體公司一直難以適應(yīng)產(chǎn)業(yè)變化,早已錯失歷史機遇;如今與其瞎折騰,不如守護好最后一點家底:位于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈最上游的設(shè)備與材料[1]。
一塊芯片封裝前,會經(jīng)歷薄膜沉淀、光刻、蝕刻、清洗等多項工藝,每一步都需要特定的加工設(shè)備與原材料。過去數(shù)十年,日本企業(yè)一直是部分半導(dǎo)體設(shè)備的主要提供商。
而日本公司對半導(dǎo)體材料近乎壟斷的地位更是威名在外:前段工序常用的材料有19種,其中14種都由日本企業(yè)主導(dǎo)。
2019年7月,隨著日韓矛盾加劇,日本政府對韓國企業(yè)發(fā)起制裁,限制半導(dǎo)體核心材料的出口。鐵錘剛砸下三天,三星掌門李在镕如坐針氈,專程趕赴日本懇求松口。
后來眾議員的研討會結(jié)束不久,湯之上隆就寫了篇文章,標題叫“日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料為何那么強?”,自豪之情溢于言表[2]。
極其夸張的市場份額
結(jié)果文章發(fā)出去沒多久,日本就吃了一場敗仗。2021年,韓國的SEMES強勢崛起,超越日本企業(yè)SCREEN成為全球第六大半導(dǎo)體設(shè)備公司,其母公司正是在材料上被卡的翻白眼的三星。同一時期,三星一口氣投資了十幾家材料公司,希望在材料環(huán)節(jié)繞開日本。
另一個有趣的現(xiàn)象是,相比輿論對日本半導(dǎo)體材料壟斷地位的艷羨,以及日本在化學(xué)、材料學(xué)等領(lǐng)域長期耕耘的贊譽,日本產(chǎn)業(yè)界卻對這一成就評價復(fù)雜:
湯之上隆一邊高度認可材料環(huán)節(jié)的強勢地位,但一邊稱日本對韓國的斷供“極其愚蠢”。另一位學(xué)者西村吉雄則在《日本電子產(chǎn)業(yè)興衰錄》中說,日本芯片產(chǎn)業(yè)衰落的原因之一,就是做了太多基礎(chǔ)研究,反而忽視了應(yīng)用和模式層面的創(chuàng)新。
日本的半導(dǎo)體材料常常是一個被輿論神化的產(chǎn)業(yè),它實際上并不復(fù)雜,但也沒有那么簡單。
卡脖子
對韓國芯片公司而言,日本的貿(mào)易制裁,其威力不亞于往京畿道工廠丟一顆炸彈。
被限制出口的半導(dǎo)體材料共有三種,首當(dāng)其沖的是氟化聚酰亞胺。這個念起來有些費嘴的化學(xué)物質(zhì),是部分OLED面板的原材料。一旦掐斷供給,OLED電視等拳頭產(chǎn)品將面臨無貨可出的窘境。
但對三星等韓企來說,更棘手的其實是另外兩件“戰(zhàn)略核武器”。
*件是EUV光刻膠,打擊目標是韓國半導(dǎo)體的“未來”。
光刻膠是光刻工藝的關(guān)鍵材料,而光刻又是芯片制造的核心工藝。目前*進的光刻工藝是EUV(極紫外線),用于生產(chǎn)7nm以及更先進制程的芯片。
過去幾年,三星一直在努力迭代自研的手機處理器Exynos,即便三星自己擁有7nm和5nm制程工藝,但也繞不開光刻膠這一環(huán)。此時,作為原材料的光刻膠遭到制裁,本就不富裕的日子變得更加雪上加霜。
另外,三星、SK海力士對下一代DRAM的研發(fā)也將被迫暫停。當(dāng)前,市場上的DRAM產(chǎn)品仍在努力逼近10nm制程,尚且用不上EUV光刻這樣的先進技術(shù);但未來DRAM的制程大概率會提升至5nm,這便踏進了EUV光刻的領(lǐng)域。
相比之下,第二把利器殺傷力更甚。這款名叫高純度氟化氫的材料,足以扼住韓國半導(dǎo)體的“現(xiàn)在”。
氟化氫是一種清洗用的化學(xué)材料。清洗工藝能夠去除芯片生產(chǎn)所帶來的雜質(zhì),是影響芯片品質(zhì)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。生產(chǎn)一款芯片大概需要500至1000個步驟,其中大約10%的步驟都得用到氟化氫進行清洗,堪稱是半導(dǎo)體的“血液”。
一旦氟化氫庫存告急,邏輯半導(dǎo)體(如CPU)、DRAM等主流半導(dǎo)體芯片均無法生產(chǎn),能否開展日常業(yè)務(wù)都將打上一個問號[7]。
面對日本的咄咄逼人,危機感爆棚的韓國人使出了渾身解數(shù),先是跑去WTO伸冤打官司,與此同時,政府牽頭大搞國產(chǎn)替代,一口氣投入了6萬億韓元的預(yù)算,三星也跟著投資了一批韓國本土的半導(dǎo)體材料企業(yè)。
在“打倒日本帝國主義”的號召下,同仇敵愾的韓國企業(yè)成功研發(fā)出了國產(chǎn)版本的高純度氟化氫和EUV光刻膠。文在寅卸任前的新年致辭中,曾重點提及了上述成就。
然而,故事的走向卻沒有發(fā)生太多逆轉(zhuǎn):直到如今,日本依舊高度壟斷著高純度氟化氫和EUV光刻膠。
其地位之所以屹立不倒,和上述半導(dǎo)體材料的一大特質(zhì)有關(guān):日本壟斷的材料,多是不能即插即用的非標準化產(chǎn)品。
其中氟化氫尤為典型——清洗并不是一項標準化的工藝,每個制造商都有各自的理解和流程。因此,關(guān)于氟化氫的使用,實際上有稀釋、與氯化氫混合、與過氧化氫混合等多種完全不同的方案。而每種方案對氟化氫產(chǎn)品的要求又不太一樣,均需要專門定制。
另一方面,大多數(shù)產(chǎn)品的理論原理和工藝技術(shù)都是公開的,但選材與配比的數(shù)值,甚至生產(chǎn)車間合適的溫度和濕度,都需要漫長的實驗才能得到*結(jié)果。材料的非標特質(zhì),會帶來兩方面影響:
(1)企業(yè)難以輕易更換解決方案以及相關(guān)供應(yīng)商,一旦合作就是長期綁定。
在這方面,日本自己就吃過虧。1999年,日立和NEC兩家龍頭企業(yè)合資成立了存儲企業(yè)爾必達,準備向領(lǐng)跑的三星發(fā)起進攻。但在公司成立的頭兩年,卻爆發(fā)了嚴重的生產(chǎn)問題,市場份額也迅速下跌,而“罪魁禍首”之一正是日立和NEC的清洗方案不兼容。
因此,哪怕韓國企業(yè)自研出了高純度氟化氫,依舊不能立刻擺脫日企的壟斷,最快也需要至少1年時間做測試;而EUV光刻膠的更換周期則更久,通常需要測試2-3年才能搬上產(chǎn)線。
“有國產(chǎn)材料”和“用國產(chǎn)材料”,實際上是兩件事。
(2)非標材料的制造工藝多且繁雜,甚至存在部分只可意會不可言傳的隱性知識,需要企業(yè)有長期相關(guān)的積累。在這方面,向來以“匠人精神”自居、發(fā)力較早的日本同樣有先天優(yōu)勢。
正如湯之上隆在書中寫道:日本半導(dǎo)體材料的競爭力核心,正是日本獨特的匠人文化。
不可否認,這種“一生做好一件事”的匠人文化,確實在氟化氫這類具備延續(xù)性的領(lǐng)域頗有成效。氟化氫技術(shù)的迭代,本質(zhì)是不斷提升純度,將小數(shù)點后面的9越做越多的過程,主打一個精益求精。
韓國雖實現(xiàn)了氟化氫的國產(chǎn)化,但其純度只有99.99999999%(小數(shù)點后8個9),日本企業(yè)卻能做到小數(shù)點后10個9?瓷先ハ嗖顭o幾,但如果乘上幾十上百道工序,最終結(jié)果會千差萬別。
但問題是,難道隔了個日本海,匠人文化就失傳了嗎?日本半導(dǎo)體材料的強勢,顯然不能只用文化來解釋。
日本式的勝利
和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)很多環(huán)節(jié)一樣,光刻膠誕生于美國,柯達、IBM曾是該市場的領(lǐng)跑者,但最終被日本產(chǎn)業(yè)化。
從上世紀80年代開始,日本光刻膠產(chǎn)業(yè)突然火力全開,最終將IBM斬于馬下。這一切的起點,始于一個至今仍被全球反復(fù)研究的項目——VLSI。
1976年,IBM研發(fā)新一代計算機的消息傳來,日本業(yè)界意識到1μm或更小工藝日趨臨近,深感時不我待的通產(chǎn)省集結(jié)了富士通、日立、三菱、東芝、NEC五家半導(dǎo)體公司,以及日本工業(yè)技術(shù)研究院、 電子綜合研究所和計算機綜合研究所三家機構(gòu),開展了一個名為VSLI(超大規(guī)模集成電路)的追趕計劃。
VLSI*的成就是DRAM芯片的突破,直接開創(chuàng)了日本半導(dǎo)體的黃金年代。但實際上,VLSI項目共設(shè)有六個實驗室,除了三個搞產(chǎn)品研發(fā)的,還有專門負責(zé)攻堅半導(dǎo)體材料、光刻工藝以及封裝測試技術(shù)的團隊。其中第四實驗室的科研成果,就是負性光刻膠。
當(dāng)時,隔壁的第五實驗室成功生產(chǎn)出了縮小投影型光刻裝置。由于材料和設(shè)備兩者互相強綁定,需要一同配套研發(fā),這讓第四實驗室的光刻膠研發(fā)掃除了*的障礙。
VLSI*的成果,實際上是通過市場規(guī)模巨大的DRAM的突破,創(chuàng)造了一套國產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈,擺脫了對美國的設(shè)備依賴。包括做材料的京瓷和住友,做光罩的TOPPAN,做封測的東京電子,和做光刻機的尼康。
90年代,KrF開始成為光刻膠的主流路線。此時,尼康推出了全球*實現(xiàn)商業(yè)化應(yīng)用的KrF光刻機系統(tǒng),隔壁的光刻膠企業(yè)趁勢追趕。從2000年開始,隨著光刻膠路線開始往ArF和EUV轉(zhuǎn)向,日本又迅速和新任光刻機龍頭ASML建立了深度綁定,雙方配套研發(fā)、共同迭代。
由于和產(chǎn)業(yè)鏈的深度綁定,不論技術(shù)路線如何變化,日本光刻膠都有機會領(lǐng)跑[11]。
另一個推手則是日本產(chǎn)業(yè)界對基礎(chǔ)科研的極端重視。雖然大多數(shù)新技術(shù)都在日本產(chǎn)業(yè)化,但日本社會普遍不滿足于生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)的成功,尤其是以貝爾實驗室為代表的大公司研究院模式,更是被日本反復(fù)學(xué)習(xí)效仿。
彼時,日本主流思潮認為:如果能在基礎(chǔ)科學(xué)上也保持*,日本將長期立于不敗之地[12]。
90年代后,日本經(jīng)濟陷入長期衰退,日本官方再次下場,希望通過對基礎(chǔ)研究的投入復(fù)蘇半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。1995年,日本出臺了《科學(xué)技術(shù)基本法》,并計劃此后每年往科學(xué)領(lǐng)域投入4萬億至5萬億日元。
2001年,日本政府提出,希望到2050年,日本能誕生30個諾貝爾獎。此后20年,日本足足有16人獲得了三大自然科學(xué)類諾貝爾獎,位居全球第三,其中6個屬于和半導(dǎo)體材料強相關(guān)的化學(xué)領(lǐng)域。
依靠在基礎(chǔ)科研上的長期投入,日本一直維持著半導(dǎo)體材料市場的霸主地位,并且將*蔓延到了動力電池產(chǎn)業(yè)。2019年,吉野彰獲得了諾貝爾化學(xué)獎,他的一大成就是發(fā)現(xiàn)了鋰電池負極材料,日本企業(yè)則是該領(lǐng)域的領(lǐng)跑者之一。另外,松下也是動力電池最主要的生產(chǎn)商之一。
但讓日本產(chǎn)業(yè)界始終難以介懷的是,與半導(dǎo)體材料的凱歌高奏相反,日本的傳統(tǒng)優(yōu)勢項目存儲、面板、芯片制造等環(huán)節(jié),卻始終止步不前,成為了電子產(chǎn)業(yè)黃金年代中尷尬的旁觀者。
得到的與失去的
2023年3月,韓國總統(tǒng)尹錫悅出訪日本,宣告自2019年開始的日韓貿(mào)易戰(zhàn)結(jié)束。韓國不少聲音認為,尹錫悅已經(jīng)舉白旗投降——因為爭端源頭是歷史遺留問題催生的民族矛盾,但他上臺后卻對這些問題閉口不談,更主動對日本示好,無疑是“滑跪”的體現(xiàn)。
然而湯之上隆并不這么認為。他公開表示,制裁正在親手摧毀日本的氟化氫產(chǎn)業(yè),堪稱“歷史性的愚策”,因為日本同樣高度依賴韓國市場。
事實也是如此,日本財務(wù)省統(tǒng)計的出口數(shù)據(jù)顯示,2011年之后,韓國一直是日本氟化氫的*出口國,并占據(jù)了總出口量的90%以上。由于氟化氫難以輕易替換,一旦合作便是長期綁定;但反過來說,一旦三星鐵了心要搞國產(chǎn)替代,日本氟化氫也會失去最主要的收入來源。
而這種影響已經(jīng)開始出現(xiàn)。2019年之前,日本氟化氫的對韓出口量大約在每月3000噸左右。此后,日本雖然解除了出口限制,但直到2023年年初,這個數(shù)字依舊只有約500噸[15]。
日本氟化氫對韓出口變化
這種“傷敵一千,自損一千二”的現(xiàn)象,反映了整個半導(dǎo)體材料行業(yè)的尷尬處境:戰(zhàn)略價值大,但戰(zhàn)術(shù)價值小。
材料雖是芯片生產(chǎn)的必需品,但市場規(guī)模“僅有”643億美元(2021年),相比之下,日本人失去的存儲和面板市場,規(guī)模都高達1600億美元和1300億美元(2021年)。這還沒算上曾是日本傳統(tǒng)優(yōu)勢項目——被蘋果、高通、英偉達等公司占據(jù)的消費電子市場。
因此高情商的說法是,幾百億規(guī)模的半導(dǎo)體材料,足以影響下游上萬億規(guī)模的電子市場;但低情商的說法是,市場規(guī)模也就這么大。
這也是日本產(chǎn)業(yè)界無法釋懷的原因:相比他們失去的存儲、面板、芯片制造和消費電子市場,材料領(lǐng)域的霸權(quán)實在是太微不足道了。
在《日本電子產(chǎn)業(yè)興衰錄》一書中,對于日本政府和企業(yè)在科研上的大手筆投入,作者西村吉雄非但不覺得驕傲,反而認為對科研的癡迷導(dǎo)致日本半導(dǎo)體公司錯過了90年代電子產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)型大潮。他提出了一個很有代表性的觀點:日本公司很擅長研究“怎么做”,卻疏于判斷“做什么”。
西村吉雄認為,基礎(chǔ)科學(xué)固然重要,但日本對此有些過度迷信,把“創(chuàng)新”與“技術(shù)突破”混為一談。在書中,他通過英特爾的例子來論證,其成功恰恰不是依賴于科學(xué)研究,而是打造了“技術(shù)封閉+標準開放”的生態(tài),任何開發(fā)者都可以基于x86架構(gòu)與Windows系統(tǒng)開發(fā)軟件,最終成為了消費電子時代的霸主。
微處理器(CPU)等邏輯半導(dǎo)體的出現(xiàn),其實和基礎(chǔ)科學(xué)的進步無關(guān),更多是受到了市場需求的推動。日本對基礎(chǔ)科學(xué)的癡迷,最終導(dǎo)致它與一個千億美金的市場失之交臂。
后來,湯之上隆又在《失去的制造業(yè)》里補充一個生動鮮活的案例:
被三星打到破產(chǎn)的爾必達,其實在技術(shù)上遠遠超過三星。比如爾必達的512M DRAM的良品率可以達到98%,三星只有83%,但問題是,把成品率從80%提高到95%需要付出巨大的成本。相比三星2005年30%的利潤率,爾必達只有3%。
2008年,行業(yè)進入下行周期,三星故意擴產(chǎn)進一步壓低價格,爾必達虧到親媽不認。在破產(chǎn)的發(fā)布會上,CEO坂本幸雄仍然念叨著“爾必達技術(shù)世界*”。
湯之上隆在《失去的制造業(yè)》中總結(jié)了日本強勢產(chǎn)業(yè)的幾個特點,其中最重要的一點是:日本公司擅長在一條長坡厚雪的賽道做持續(xù)的創(chuàng)新,而不善于面對頻繁的技術(shù)變化。
前者的代表是燃油車、鋰電池和半導(dǎo)體材料這類“干中學(xué)、學(xué)中干”色彩強烈的產(chǎn)業(yè),后者則是他們失去的存儲和面板。無論是市場地位、公司營收,還是創(chuàng)造的利稅、崗位與附加值,半導(dǎo)體材料都無法和后者相比擬。
尾聲
20世紀80年代,西方世界對東亞經(jīng)濟騰飛的解讀仍以新自由主義為底色,日本政府頗有微詞,豪擲120萬美元考察費,邀請世界銀行專家“客觀分析”日本模式成功的原因。1993年,世行出版了針對東亞后發(fā)經(jīng)濟體的研究報告《東亞奇跡》,扭扭捏捏的承認了“政府主導(dǎo)產(chǎn)業(yè)升級”的益處。
報告發(fā)表一年后,美國經(jīng)濟學(xué)家保羅·克魯格曼(Paul Krugman)在《外交雜志》上潑了一盆冷水,稱日本“并非經(jīng)濟奇跡的典型”,亞洲四小虎更是紙老虎:"亞洲的繁榮是高投入創(chuàng)造的數(shù)量增長,而非效率提升,建立于浮沙之上,遲早會幻滅 。"
80年代也是日本產(chǎn)業(yè)界自我反省的高峰期,日本人認為,自己不應(yīng)該滿足于將誕生于美國技術(shù)產(chǎn)業(yè)化,而是應(yīng)該效仿美國企業(yè)設(shè)立研究院,在基礎(chǔ)科研上百尺竿頭更進一步,在下一次技術(shù)浪潮中拔得頭籌。
直到今天,日本企業(yè)的科研投入仍保持在全球一線梯隊:2019年,日本企業(yè)的研發(fā)投入占該年度GDP的3.51%,位居全球第三[13]。
陰差陽錯的是,在長久的經(jīng)濟衰退中,日本的優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)被韓國、中國大陸和臺灣地區(qū)瓜分殆盡,在日本人眼里,產(chǎn)業(yè)上游的霸權(quán)地位,更像是某種體面的撤退。
日本在半導(dǎo)體材料上的霸權(quán)依然穩(wěn)固,但他們更加在意的是,夏普的龜山屏、東芝的Dynabook和索尼的Walkman,曾一次又一次驚艷過世界。
基礎(chǔ)科研與所謂“應(yīng)用創(chuàng)新”,本質(zhì)上并無高低優(yōu)劣之分,長周期高投入的科研與商業(yè)利益的平衡從來都難以取舍。但歸根結(jié)底,創(chuàng)新的目的不是為了卡誰的脖子,而是通過提高定價權(quán)獲得更高的產(chǎn)業(yè)附加值,繼而通過高收入崗位的創(chuàng)造與財富再分配,改善更多普通人的生活。
參考資料
[1]衆(zhòng)議院 2021年06月01日 科學(xué)技術(shù)特別委員會 #04 湯之上隆(參考人 微細加工研究所所長),Youtube
[2]半導(dǎo)體製造裝置と材料、日本のシェアはなぜ高い?~「日本人特有の気質(zhì)」が生み出す競爭力,湯之上隆
[3]日本の前工程裝置のシェアはなぜ低下?~歐米韓より劣る要素とは,湯之上隆
[4] 國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠野望,半導(dǎo)體行業(yè)觀察
[5] 電子化學(xué)品系列報告之一:光刻膠國產(chǎn)替代迎來良機,太平洋證券
[6] 光刻膠:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心卡脖子環(huán)節(jié),國內(nèi)廠商蓄勢待發(fā),浙商證券
[7]日韓経済戦爭の泥沼化、短期間でフッ化水素は代替できない,湯之上隆
[8] Dongjin Semichem localizes EUV photoresist,ET News
[9] 失去的制造業(yè):日本制造業(yè)的敗北,湯之上隆
[10]韓國宣布國產(chǎn)高純度氟化氫成功,日本時隔半年重啟出口,快科技
[11] 大國產(chǎn)業(yè)鏈,中金公司研究部
[12] 日本電子產(chǎn)業(yè)興衰錄,西村吉雄
[13] 日本企業(yè)科技創(chuàng)新情況及相關(guān)案例研究,科情智庫
[14]日本:被罵出來的諾貝爾獎,世界靈敏度
[15]安倍內(nèi)閣と経産省が半導(dǎo)體材料産業(yè)の一角を破壊した…韓國への輸出規(guī)制は歴史的愚策,湯之上隆
[16] Chip supplier says China will struggle to develop advanced technology,F(xiàn)inancial Times
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