4月24日消息,據(jù)外媒報道,臺積電仍采用鰭式場效應(yīng)晶體管架構(gòu)的3nm制程工藝,在去年的12月29日正式開始商業(yè)化生產(chǎn),雖然較三星電子晚了近半年,但仍被業(yè)界看好。
對于3nm制程工藝,臺積電管理層在一季度的財報分析師電話會議上,也有重點談及。
在財報分析師電話會議上,臺積電CEO魏哲家表示,他們的3nm制程工藝以可觀的良品率量產(chǎn),在高性能計算和智能手機(jī)應(yīng)用需求的推動下,客戶對3nm制程工藝的需求超過了他們的產(chǎn)能,他們預(yù)計今年的產(chǎn)能將得到充分利用。
魏哲家在會上還透露,他們的3nm制程工藝,預(yù)計從三季度開始就將為他們帶來可觀的營收,在他們今年全年晶圓代工業(yè)務(wù)收入中所占的比例預(yù)計為中等個位數(shù)。
魏哲家在會上還表示,從功耗、性能和面積及晶體管技術(shù)來看,他們的3nm制程工藝都是目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù),他們也因此預(yù)計客戶對他們的3nm制程工藝的強(qiáng)勁需求將持續(xù)多年,他們有信心3nm制程工藝家族成為他們另一個大而持久的工藝節(jié)點。
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