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    臺積電目前正在研發(fā)更先進的2nm制程工藝 計劃在2025年量產

    2022年06月21日 09:51:21   來源：手機之家

    　　6月20日，根據外媒報道，臺積電目前正在研發(fā)更先進的2nm制程工藝，計劃在2025年量產。據了解，臺積電在上周舉行的北美技術論壇上宣布他們的目標是2nm制程工藝在2025年量產，這也是他們首次透露這一工藝的量產時間。

    　　臺積電在論壇上透露2nm制程工藝將基于全新的納米片電晶體架構，與5nm工藝所采用的鰭式場效應晶體管(FinFET)完全不同。此前有消息透露稱，臺積電2nm建廠計劃相關環(huán)保評審文件已提交送審，力爭明年上半年通過環(huán)評，隨即交地建廠，第一期廠預計2024年底前投產。在2024年進行風險試產，在2025年進行量產。

    　　除臺積電外，三星晶圓代工業(yè)務的負責人曾表示，基于 3nm 的芯片設計計劃于 2022 年上半年開始生產，而基于 2nm 的芯片將在 2025 年量產。目前只知道三星將采用GAA晶體管，跟3nm一樣基于MBCFET(多橋溝道FET)技術，這是一種納米片晶體管，可以垂直堆疊，而且兼容現在的CMOS工藝，共享設備與制造方法，降低了新技術的升級成本。

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