三星電子今日宣布,基于3納米(nm)全環(huán)繞柵極(Gate-All-AroundT,簡稱 GAA)制程工藝節(jié)點的芯片已經(jīng)開始初步生產(chǎn)。該公司已經(jīng)開始在其位于韓國的華城工廠大規(guī)模生產(chǎn) 3 納米半導體芯片,是全球首家量產(chǎn) 3 納米芯片的公司。
3nm GAA技術(shù)采用了更寬通的納米片,與采用窄通道納米線的GAA技術(shù)相比能提供更高的性能和能耗比。
與三星5nm工藝相比,第一代3nm工藝可以使功耗降低45%,性能提升23%,芯片面積減少16%;而未來第二代3nm工藝則使功耗降低50%,性能提升30%,芯片面積減少35%。
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