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    2nm 半導(dǎo)體代工競賽拉開帷幕:臺積電、三星和 Rapidus 紛紛出手

    2023年09月28日 16:55:12   來源:IT之家

      雖然 2nm 先進半導(dǎo)體芯片尚未投產(chǎn),但半導(dǎo)體代工廠的設(shè)備爭奪戰(zhàn)已拉開帷幕。為了保證 2nm 工藝技術(shù)的順利部署,臺積電、三星、Rapidus 都開始了上游設(shè)備領(lǐng)域的競爭。

      部署情況:

      臺積電

      臺積電于 9 月 12 日宣布,以不超過 4.328 億美元收購英特爾子公司 IMS Nanofabrication 的 10% 股權(quán)。

      IMS 專業(yè)從事電子束光刻機的開發(fā)和生產(chǎn),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造,光學元件生產(chǎn),MEMS 制造等。

      業(yè)內(nèi)專家認為,臺積電收購 IMS 將確保關(guān)鍵設(shè)備技術(shù)的發(fā)展,滿足 2nm 商業(yè)化的供應(yīng)需求。

      三星:

      三星此前收購了 ASML 的 3% 股份,并不斷深化兩家公司的合作。報告顯示,三星正準備引入下一代高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機,原型預(yù)計將于今年晚些時候亮相,并于明年投入商業(yè)使用。

      Rapidus:

      至于半導(dǎo)體新來者 Rapidus,獲得 ASML 的支持至關(guān)重要,因為 EUV 是批量生產(chǎn) 5-7nm 以下芯片的重要技術(shù)。

      IT之家注:ASML 將于 2024 年在日本北海道建立技術(shù)支持基地,并派遣約 50 名工程師協(xié)助在 Rapidus 的 2nm 芯片工廠中試生產(chǎn)線上搭建 EUV 光刻設(shè)備,提供調(diào)試、維護和檢查方面的協(xié)助。

      進展情況

      臺積電:

      臺積電的目標是到 2025 年生產(chǎn) N2 技術(shù)。6 月份的報道顯示,臺積電全力以赴,開始為 2nm 芯片的試制做準備。

      7 月,臺積電供應(yīng)鏈透露,臺積電已通知設(shè)備供應(yīng)商從次年第三季度開始交付 2nm 相關(guān)機械。

      9 月,媒體報道稱,臺積電已組建專門的 2nm 專責小組,力爭明年實現(xiàn)風險生產(chǎn),2025 年開始量產(chǎn)。

      三星:

      6 月,三星宣布了其最新的晶圓代工技術(shù)創(chuàng)新和業(yè)務(wù)戰(zhàn)略,公布了 2nm 工藝批量生產(chǎn)的詳細計劃和性能水平。

      三星計劃到 2025 年將 2nm 工藝應(yīng)用于移動應(yīng)用,分別在 2026 年和 2027 年擴展到 HPC 和汽車電子。

      Rapidus:

      該公司計劃 2025 年試產(chǎn) 2nm 芯片,2027 年開始量產(chǎn)。

      7 月,Rapidus 總裁小池敦義表示,在 2025 年運營試產(chǎn)線并在 2027 年開始批量生產(chǎn)是一個雄心勃勃的目標,但進展正在走上正軌。他指出,一旦該公司的 2nm 工藝產(chǎn)品投入批量生產(chǎn),其單價將是目前日本生產(chǎn)的邏輯半導(dǎo)體的十倍。

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