集邦咨詢(xún)：2023 年半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)收入下降 6-9%，明年有望復(fù)蘇

　　集邦咨詢(xún)近日發(fā)布《2023 年全球光刻膠市場(chǎng)分析》，預(yù)估 2023 年半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)銷(xiāo)售收入同比下降 6-9%。

　　不過(guò)該機(jī)構(gòu)預(yù)估隨著下游客戶(hù)庫(kù)存持續(xù)改善和產(chǎn)能逐步恢復(fù)，2024 年半導(dǎo)體行業(yè)將經(jīng)歷復(fù)蘇，光刻膠需求也有望反彈。

　　光刻膠(Photoresist)又稱(chēng)光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

　　光刻膠是光刻工藝中的關(guān)鍵材料，主要應(yīng)用于積體電路和分立器件的細(xì)微圖形加工。

　　光刻膠品種眾多，本次提價(jià)涉及的 KrF 光刻膠屬于高端光刻膠，是未來(lái)國(guó)內(nèi)外廠商的主要競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng)之一。

　　目前光刻膠市場(chǎng)一直由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)和東進(jìn)半導(dǎo)體等主要制造商主導(dǎo)。

　　光刻膠行業(yè)需要高度專(zhuān)業(yè)化，涉及復(fù)雜的樹(shù)脂、感光酸和添加劑配方，每家公司都將其視為商業(yè)機(jī)密。

　　巨大的技術(shù)壁壘，加上從實(shí)驗(yàn)室試驗(yàn)到市場(chǎng)生產(chǎn)對(duì)純度和性能的需求，使得整個(gè)產(chǎn)品開(kāi)發(fā)過(guò)程既耗時(shí)又復(fù)雜。

　　此外，滿足客戶(hù)要求和生產(chǎn)線的調(diào)整需要 1 到 3 年的驗(yàn)證，讓客戶(hù)難以轉(zhuǎn)移現(xiàn)有合作的光刻膠公司。

　　IT之家附上光刻膠市場(chǎng)分析主要內(nèi)容如下：

　　預(yù)計(jì) 2024 年半導(dǎo)體需求將反彈

　　隨著下游客戶(hù)庫(kù)存的持續(xù)改善、產(chǎn)能利用率的逐步恢復(fù)，以及 AI、智能汽車(chē)等應(yīng)用的成熟和激增，預(yù)計(jì)半導(dǎo)體行業(yè)將在 2024 年經(jīng)歷復(fù)蘇。

　　半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)也有望反彈，市場(chǎng)規(guī)模將恢復(fù)到 2022 年的歷史峰值，并進(jìn)一步增長(zhǎng)，到 2027 年將超過(guò) 28 億美元。

　　高端光刻膠展現(xiàn)巨大增長(zhǎng)潛力，中韓供應(yīng)商力爭(zhēng)本土化突破

　　隨著對(duì)先進(jìn)工藝需求的持續(xù)增長(zhǎng)，EUV、ArFi / ArF 等高端光刻膠也將持續(xù)增長(zhǎng)。特別是，EUV 光刻膠有望大幅增長(zhǎng)，這主要是因?yàn)樵撔袠I(yè)追求具有更高計(jì)算能力和能源效率的芯片。

　　使用 EUV 技術(shù)生產(chǎn)的先進(jìn)芯片數(shù)量預(yù)計(jì)將大幅增加，使 EUV 光刻膠成為半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)中增長(zhǎng)潛力最大的細(xì)分市場(chǎng)，預(yù)計(jì)到 2025 年，EUV 光刻膠將占 10% 的市場(chǎng)份額。

　　由于光刻膠生產(chǎn)的進(jìn)入壁壘很高，目前，日本制造商主導(dǎo)著全球光刻膠市場(chǎng)，供應(yīng)比例約為 80%。

　　特別是在 EUV、ArFi / ArF 等先進(jìn)光刻膠領(lǐng)域，JSR、TOK 和信越化學(xué)等日本大公司占據(jù)絕對(duì)主導(dǎo)地位，此前也經(jīng)歷了多次光刻膠供應(yīng)商的供應(yīng)中斷事件。

　　為應(yīng)對(duì)供應(yīng)中斷的風(fēng)險(xiǎn)，中韓兩國(guó)都積極推進(jìn)光刻膠生產(chǎn)的國(guó)產(chǎn)化。

　　在韓國(guó)，Dongjin Semichem 和 SK Materials 等公司在先進(jìn)光刻膠領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展，實(shí)現(xiàn)了部分 ArFi 和 EUV 光刻膠的國(guó)產(chǎn)化。

　　而我國(guó)中低端光刻膠產(chǎn)能率已達(dá)到 30%，并不斷加強(qiáng) ArF 和 EUV 光刻膠領(lǐng)域的研發(fā)力度。ArF 光刻膠已實(shí)現(xiàn)部分進(jìn)口替代，預(yù)計(jì)未來(lái)國(guó)內(nèi)產(chǎn)能將逐步提升。